株式会社Gaianixx、多能性®中間膜及びエピタキシャルの研究開発を加速化するためのシリーズB 1stラウンドで10億円調達——累計調達額は15億円に

東京・文京区を拠点とする株式会社Gaianixxは30日、シリーズB 1stラウンドにて総額10億円の資金調達を実施したと明らかにした。このラウンドはUTEC5号投資事業有限責任組合、JX金属株式会社、i-nest1号投資事業有限責任組合、JSR Active Innovation Fund合同会社が引受先とした第三者割当増資である。これにより、累計調達額は15億円に達した。

株式会社Gaianixxは、多能性®中間膜及びエピタキシャルの研究開発・製造・販売を推進する東京大学発テクノロジーベンチャー企業である。代表取締役の中尾健人氏（現・代表取締役）らにより設立され、多能性®中間膜とエピタキシャル膜が半導体のエンジンともいえる部分に大きなイノベーションをもたらせる可能性を探求している。

同社の中間膜技術は、次世代の電子デバイスやセンサー、エネルギーハーベスティングシステムなどの基盤となる可能性を秘めている。この資金調達を通じて、その技術の商業化に向けて大きく前進できると確信している。

資金調達の目的は研究開発の強化と人材採用の強化である。新たな設備投資により、中間膜技術の性能、信頼性、量産性を向上させるための研究開発を強化するとともに、研究開発、事業開発を加速化させるために、新たな人材を獲得することを目指している。

これにより、株式会社Gaianixxは、圧倒的な技術力を維持しながら、より広範なマーケットにサービスを提供するための基盤を強化できると期待されている。特に、新たな機械や設備を導入し、研究開発を進めることで、中間膜技術の性能を大幅に向上させ、その結果、新しい商業製品やソリューションの開発を可能にする。

今回の資金調達を通じて、株式会社Gaianixxはそのビジョンをさらに前進させ、中間膜及びエピタキシャル膜の研究開発を強化し、同社の成長を加速することを目指しています。また、この資金は、新たなタレントの採用、リサーチと開発の能力の強化、そしてより大きな市場への進出を可能にします。